Prologue
반도체 Etch 공정 엔지니어의 길잡이

PART 01 Etch 공정의 기초
CHAPTER 1. 반도체란 무엇인가?
CHAPTER 2. Etch 공정의 기본 개념
CHAPTER 3. 플라즈마에 대한 이해

PART 02 Etch 공정 기술 개발 Trend와 Recipe Design
CHAPTER 1. Contemporary Etch Process
CHAPTER 2. Recipe Design 원리와 기법
CHAPTER 3. 연구 방법론과 공정 최적화
CHAPTER 4. Demo평가: 공정의 완성을 향한 파트너십

PART 03 Etch 장비(Hardware)의 이해
CHAPTER 1. Dry Etch 장비 구조와 Process Chamber의 이해
CHAPTER 2. RF Power와 Plasma 제어
CHAPTER 3. Hardware 유지 보수와 안전

PART 04 현직자가 이야기하는 커리어
CHAPTER 1. 현직 Etch 엔지니어 인터뷰
CHAPTER 2. 주니어에서 시니어로 성장 로드맵

Epilogue
부록

저자 : 김도한 외 6인
반도체 Etch 공정과 장비 분야에서 실무 경험을 쌓아온 현직 엔지니어들이 함께 집필했다. 공저자는 김석태, 임태환, 김도한, 구현재, 박지호, 김동현, 박민지이며, 감수는 박근영이 맡았다.

저자들은 반도체 산업에 처음 진입하는 독자들이 Etch 공정을 보다 현실적으로 이해할 수 있도록, 현장에서 마주한 공정 개발 경험과 장비 이해, 엔지니어링 사고방식을 책에 담았다.

※ 이론과 실무 사이의 간극을 줄이고, 미래의 Etch 엔지니어들에게 실질적인 방향을 제시하는 것을 목표로 한다.

반도체는 이제 단순한 전자부품이 아니라 국가 경쟁력과 미래 산업을 결정짓는 핵심 기술이 되었다. 스마트폰, 자동차, 인공지능, 데이터센터, 첨단 의료기기 등 현대 사회의 거의 모든 기술은 반도체 위에서 작동한다. 그만큼 반도체 산업에 대한 관심도 커졌지만, 막상 산업 현장의 공정과 장비를 구체적으로 이해하기란 쉽지 않다.

『ETCH 101』은 반도체 Etch 공정과 장비를 처음 접하는 독자에게 이론과 현장을 함께 보여주는 책이다. 학교에서 배우는 반도체 소자 이론이 산업 현장에서는 어떤 공정으로 연결되는지, Etch 엔지니어는 어떤 데이터를 보고 어떤 판단을 하는지, 장비와 공정은 어떻게 맞물려 움직이는지를 차근차근 설명한다.

이 책의 가장 큰 장점은 ‘현직자의 언어’에 있다. Etch 공정은 단순히 물질을 제거하는 과정이 아니다. 회로 패턴을 실제 구조로 구현하고, 소자 간의 독립성을 확보하며, 다층 구조 속 연결 통로를 만드는 정밀한 엔지니어링의 과정이다. 책은 이러한 Etch의 본질을 독자가 이해하기 쉬운 비유와 도식, 현장 중심 설명으로 풀어낸다.

또한 최신 기술 흐름도 놓치지 않는다. Pulsed Plasma Etching, Cryogenic Etch, Atomic Layer Etch, 데이터 기반 Recipe 개선, Demo 평가와 같은 주제는 반도체 공정이 단순 반복 작업이 아니라 정밀 제어와 문제 해결의 영역임을 보여준다.

마지막 파트에서는 현직 Etch 엔지니어 인터뷰와 커리어 로드맵을 통해 반도체 산업에 처음 발을 딛는 독자들이 실제 직무를 보다 현실적으로 바라볼 수 있도록 돕는다.

『ETCH 101』은 반도체 공정 엔지니어를 꿈꾸는 사람에게는 길잡이가, 현장에 막 들어선 주니어 엔지니어에게는 공정과 장비의 큰 그림을 정리하는 실무 입문서가 될 것이다.


추천평

도쿄일렉트론코리아의 ETCH 엔지니어들이 함께 모여 만든 『ETCH 101』은 임직원 모두의 자랑입니다. 반도체 ETCH 공부를 시작하는 모두에게 도움이 되도록 쉽게 접근할 수 있는 탄탄한 구성과 지식의 전달을 위한 고민과 노력이 돋보입니다. 회사에 입사한 신입사원들과 반도체에 관심이 많은 학생들의 ETCH 공정 길라잡이로 손색이 없을 것입니다. “한 사람의 열 걸음도 중요하지만, 서로 다른 열 사람이 만드는 한 걸음이 더 소중하고 크다.”라는 말처럼, 매일의 업무로 바쁜 가운데에도 여러분의 노력과 열정이 모여 만들어진 ‘ETCH 101’의 출간이라는 결실을 맺게 된 것을 다시 한번 축하드립니다.
- 노태우 CEO (도쿄일렉트론코리아)

반도체 공정의 핵심 기술인 Plasma Etch 공정과 장비를 현장의 시각에서 쉽고 체계적으로 풀어낸 뜻깊은 책입니다. Nano Scale Patterning 기술의 원리와 실제를 이해하고자 하는 학생과 예비 반도체 엔지니어에게 훌륭한 길잡이가 될 것이라 믿습니다. 이 책이 미래 반도체 산업을 이끌어갈 인재들에게 새로운 도전과 영감을 주는 소중한 디딤돌이 되기를 기대합니다.
- 윤국한 마스터 (삼성전자 반도체연구소 DRAM 공정개발팀)

이 책은 Etch 공정의 메커니즘과 하드웨어 시스템에 대한 균형 잡힌 시각을 제공할 뿐만 아니라, 현직 엔지니어의 커리어 로드맵까지 제시하고 있어, 식각 분야에 발을 들이는 주니어는 물론 시니어 엔지니어에게도 훌륭한 길잡이가 될 명저입니다.
- 민재호 마스터 (삼성전자 반도체연구소 FLASH 공정개발팀)

“Etch 공정의 본질을 꿰뚫는 통찰의 결정체”
미세 공정이 한계에 도전할수록 Etch 공정/장비의 중요성은 더욱 부각되고 있습니다. 하지만 막연한 경험만으로는 한계가 명확합니다. 이 책은 플라즈마 물리학적 이해부터 장비 메커니즘, 그리고 실제 Recipe 설계의 노하우까지 Etch 공정의 전 과정을 체계적으로 정리한 역작입니다. 개발 최전선에 있는 저자들의 치열한 고민과 시행착오가 녹아있는 이 책은, 독자들에게 단순한 지식이 아닌 ‘공정을 설계하는 사고방식’을 선물합니다. 입문자에게는 확고한 기초를, 현업 엔지니어에게는 문제 해결의 실마리를 제공하며, 여러분의 커리어를 한 단계 도약시킬 필독서가 될 것입니다.
- 이성훈 부사장 (SK 하이닉스 R&D 공정개발 센터장)